Cuivre

Le cuivre est utilisé de manière très universelle en galvanotechnique. Les couches de cuivre décoratives se caractérisent par une très bonne conductivité électrique et thermique, un excellent pouvoir de projection, une faible dureté, une ductilité élevée et leur brillance. Les couches de cuivre sont également utilisées comme couche intermédiaire pour améliorer la résistance à la corrosion et l’adhérence avant le nickelage, l’argent, l’étain et le chrome. Das Portfolio von Schlötter umfasst Vorkupfer (cyanhaltig und cyanfrei), Glanzkupfersysteme für Kunststoff und dekorative Anwendungen sowie BV- und TH-Filling und Superfilling-Verfahren für die Leiterplatten- und Elektronikindustrie.

Le cuivre est utilisé, par exemple, dans:

Métallisation plastique (POP), couches décoratives (GMF), production de circuits imprimés (PCB), électronique et galvanoplastie.

Description 

Produit / Application

03019 Électrolyte de cuivre SLOTOCOUP CU 50

Utilisation dans les systèmes verticaux pour une bonne répartition et opacité du métal. 

03033 Électrolyte de cuivre SLOTOCOUP SF 30

Bain de cuivre Superfilling pour les systèmes verticaux, en particulier pour le remplissage de microvias aveugles avec moins de structure de couche. 

03035 Électrolyte de cuivre SLOTOCOUP SF 50

Le bain de cuivre est utilisé à la fois dans la production de circuits imprimés pour créer un motif conducteur (L / S <50/50) et pour la métallisation de micro vias borgnes (BMV) avec une très bonne capacité de remplissage. 

03065 Électrolyte de cuivre brillant SLOTOCOUP TB 50

Bain de cuivre acide brillant qui dépose des couches de cuivre ductile très brillantes avec de faibles contraintes internes et une bonne résistance à la corrosion. 

03096 Électrolyte de cuivre SLOTOCOUP SF 1960

Le bain de cuivre fonctionne avec des anodes insolubles et a été spécialement développé pour une utilisation dans des systèmes continus verticaux. Le procédé peut être utilisé avec des densités de courant élevées et se caractérise par une capacité de remplissage rapide (buttom up fill) avec une excellente répartition du métal. 

03135 Électrolyte de cuivre SLOTOCOUP TF 1350

Le bain de cuivre a été spécialement développé pour le remplissage des vias traversants (Through Holes). 

03145 Électrolyte de cuivre SLOTOCOUP CU 1370

Électrolyte fonctionnant en courant continu et permettant une très bonne diffusion dans les trous avec un rapport d´aspect élevé. 

03172 Électrolyte de cuivre SLOTOCOUP CN 1720

Le bain de cuivre est un électrolyte cyanidique haute performance pour le dépôt de couches de cuivre brillantes, lisses, finement cristallines et ductiles et se caractérise par une excellente puissance de projection dans les zones de faible densité de courant. 

03180 Électrolyte de cuivre SLOTOCOUP CF 1800

Le bain de cuivre est un électrolyte de cuivre alcalin sans cyanure pour le dépôt de couches de cuivre lisses, finement cristallines et ductiles et, en raison de la valeur de pH de l'électrolyte, permet le revêtement de matériaux de base en acier avec un excellent pouvoir de projection et une excellente force adhésive. 

03196 Électrolyte de cuivre SLOTOCOUP SF 40

Le bain de cuivre est utilisé dans la production de circuits imprimés HDI pour remplir complètement les microvias borgnes en une seule étape du processus et en même temps pour les trous traversants, en particulier pour les applications mSAP (modified semi additive process). 

03216 Électrolyte de cuivre SLOTOCOUP BCH 2160

Le bain de cuivre est un électrolyte pour le dépôt de couches de cuivre brillantes à utiliser dans les systèmes de convoyage horizontaux et les systèmes de convoyage. 

03220 Électrolyte de cuivre SLOTOCOUP PRT 2200

En combinaison avec le placage à impulsions inversées, il permet une excellente distribution du métal dans les trous traversants, peut également être utilisé en courant continu. 

03311 Électrolyte de cuivre SLOTOCOUP BV 110

Utilisation dans les systèmes de convoyeurs verticaux. Remplissage de microvias aveugles, création de motifs conducteurs et métallisation des trous traversants en une seule étape du processus.