Chemisch Nickel

Bei der chemischen Vernickelung wird die Schicht stromlos auf das Bauteil abgeschieden. Chemisch Nickel eignet sich besonders für Bauteile mit komplexen Geometrien, da sich mit diesem Verfahren konturgetreue und gleichmäßige Schichten abscheiden lassen. Phosphor-Einbauraten im Bereich von 6 – 12%  sorgen für unterschiedliche Schichteigenschaften. Schlötter bietet eine breite Palette an hoch-, mittel- und niedrigphosporigen Verfahren (NiP) sowie Dispersionsabscheidungen.

Chemisch Nickel-Schichten werden z.B. eingesetzt in:

Leiterplattenfertigung (PCB), Elektronik, Korrosionsschutz (CRC), Maschinenbau

Description

Product / application

18003 Chemisches Nickelbad SLOTONIP NP 1150

Allroundverfahren mit kombiniertem Zusatzsystem für Abscheidungen mit 6 - 9 Gew.% Phosphor bei hoher Abscheidegeschwindigkeit von ca. 18 - 20 µm.

18007 Aktivator PDI 10

Ionogener palladiumhaltiger Aktivator zum Aktivieren von Nichtleitern für die nachfolgende, chemische Metallabscheidung.

18122 Chemisches Nickelbad SLOTONIP VN 20

Verfahren zur Anschlagvernickelung von Aluminium bzw. Aluminiumlegierungen nach der Zinkatbeize.

18187 Chemisches Nickelbad SLOTONIP LP 1870

Die aus dem chemischen Nickelbad abgeschiedenen Nickel-Phosphor Schichten sind hell, halbglänzend bis glänzend und enthalten 2 - 4 % Phosphor. Sie sind frei von Blei und Cadmium und damit RoHS-konform.

18209 Chemisches Nickelbad SLOTONIP NP 2090

Die aus dem chemischen Nickelbad abgeschiedenen Nickel-Phosphor Schichten sind hell, halbglänzend bis glänzend und enthalten > 10.5 - 12 % Phosphor. Die Abscheidegeschwindigkeit beträgt ca. 10 - 13 μm/h.

18222 Chemisches Nickelbad SLOTONIP NP 1220

Verfahren zur Abscheidung von Nickel-Phosphor Schichten mit 6 - 9 Gew.% Phosphor bei niedriger Temperatur (80°C).

18231 Chemisches Nickelbad SLOTONIP NP 2310

Das Chemisch Nickelbad ist ein Elektrolyt zur stromlosen Abscheidung von Nickel-Phosphor Überzügen speziell für den ENIG-Prozess (chemisch Nickel-Sudgold).